主要設備Equipment

分析系

光電子分析装置(XPS)

メーカー 日本電子(株) JEOL
型番 JPS-9200
仕様 X線源:Al/Mgツインアノード, Alシングルアノード, 全反射型, 電子ビーム中和補正型
加速電圧:3~12kV
エミッション電流:2.5~50mA
エネルギー掃引範囲:0~1480eV
最小エネルギー掃引間隔:0.025eV
標準試料形状:10mm×10mm×2mm(最大6個)
真空到達度:7×10-8Pa
イオン銃ビームエネルギー:Ar 0.1~4keV
ビーム電流:最大2μA(吸収電流), カーブフィッティング機能, マッピング計測機能, ベーキング機構付き
用途 表面の組成分析
化学分析(原子価の推定による化学結合状態の解明)
表面深さ方向分析、低エネルギー領域解析(10eV以下)
設置場所 デバイス分析室

EDS搭載走査電子顕微鏡(SEM-EDS)

メーカー 日本電子(株)
型番 JSM-6510
仕様 https://www.jeol.co.jp/products/detail/JSM-6510series.html
用途 材料分析
設置場所 デバイス分析室

X線CT解析装置(X-CT)

メーカー 松定プレシジョン(株)
型番 μRay5500-LCTNFRT80
仕様 管電圧:30~80kV
管電流:30~150μA
ステージ:CTステージ, 回転傾動ステージ, XYステージ
分解能:3.5μm/pixel(CTステージ)
解析ソフト:μRayVision(画像解析)3次元画像復元, スライス解析, 体積計算等
      VG studio(画像処理)
用途 デバイスの非破壊検査、最大3kgまでのサンプル(大型ステージ)
X線透過像の撮影、X線CT像の撮影
設置場所 デバイス評価室

原子間力顕微鏡(AFM)

メーカー (株)島津製作所
型番 SPM-8100FM
仕様 https://www.an.shimadzu.co.jp/surface/spm8100fm/spec.htm
用途 液晶配向界面の観測、鉛畜電池の負極電極表面での電気化学反応観測
設置場所 クリーンルーム

X線回折装置(XRD)

メーカー (株)リガク
型番 MiniFlex600
仕様 最大定格出力:600W
定格電圧:20~40kV(1kV刻み)
定格電流:2~15mA(1mA刻み)
X線管:Cu-Kα
スキャンモード:θ-2θ法
2θ測定範囲:-3~145deg
最小ステップ角度:0.005deg
用途 物質の結晶構造解析、データベース、粉体解析、応力解析
設置場所 デバイス評価室

共焦点レーザースキャン顕微鏡(CLSM)

メーカー カールツァイス
型番 LSM 5 PASCAL
仕様 顕微鏡:倒立型Axiovert200M
観察法:蛍光、透過明視野、透過部分干渉、透過位相差(一部)
蛍光フィルター(目視観察用):Fset15wf、Fset38wf、Fset49wf
蛍光フィルター(CH1):LP475、LP505、LP530、LP560、LP650
蛍光フィルター(CH2):BP475-525、505-530、505-600、530-600、560-615
対物レンズ:Plan-NeoFluor10×、20×、40×oil
対物レンズ:Plan-Apochromart60×oilDIC、100×oilDIC
搭載レーザー:Ar458、488、514nm、HeNe543nm
検出器:蛍光用2個、透過用1個
操作、解析処理システム:LSM5
用途  
設置場所 デバイス評価室

マイケルソン型2光束干渉法三次元非接触表面形状計測システム

メーカー (株)菱化システム
型番 VertScan
仕様 【基本測定仕様】
選択可能波長:520nm
対物レンズ:10×、20×
マイケルソン型2光束干渉対物レンズ:2.5×
接眼レンズ:CFWN 15×/14
CCDカメラ:2/3インチ
データ点数:640(H)×480(V)
OS:Win2000
測定モード(Focus)モーター駆動
 高さ方向分解能:<60nm
 測定高さ:~3000um(データ点数に依存)
【ステージ】
手動ステージ:X=Y=100mm移動
手動チルト機構:±2度
サンプル高さ:100mm以下
サンプル重量:最大約2Kg
本体重量:約60Kg(顕微鏡、手動ステージ、手動チルト機構、照明装置を含む)
電源:AC100V、15A
用途  
設置場所 デバイス評価室

光干渉式膜厚測定装置

メーカー Nanometrics
型番 NanoSpec M210
仕様 測定範囲:10nm~50μm
再現性:フィルムの種類によって5ű5%
標準測定時間:2.5秒
用途 薄膜の膜厚測定、フォトレジスト、酸化膜、窒化膜用
設置場所 デバイス評価室

フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)

メーカー 日本分光(株)
型番 FT/IR-410
仕様 フーリエ変換型、透過、反射、ATR、RASモード、偏光板
分解能:1,2,4,8,16cm-1
測定波数範囲:7800~400cm-1
光源:セラミック特殊光源
検出器:DLATGS
用途 膜内の分子構造解析、表面官能基の同定
設置場所 デバイス評価室

紫外可視分光光度計(UV-Vis)

メーカー 日本分光(株)
型番 UV-550
仕様 透過、反射、積分球モード、拡散反射測定、膜厚および屈折率解析、液体セル搭載、吸収係数計測
分解能:0.1nm
測定波長範囲:190~900nm
光源:重水素放電管(190~350nm), タングステンよう素ランプ(330~900nm)
検出器:光電子倍増管
用途 反射率及び透過率の測定、薄膜の膜厚測定、屈折率の測定
設置場所 デバイス評価室

ゼータ電位測定装置

メーカー (株)マイクロテック・ニチオン
型番 ZEECOM ZC-3000
仕様 ゼータ電位測定範囲 : -200~200 mV
供給印加電圧 : 0~350V
測定可能粒径 : 0.02~300μm
モビリティー : -20~20 cm2/sec・V
用途  
設置場所 デバイス評価室

マニピュレータ

メーカー 駿河精機(株)
型番 UGO293
仕様 [マニピュレータ]
 ストローク:前後15mm,左右15mm
 分解能:0.1μm/パルス
 アームホルダー:0~90°の回転可能
[XYステージ]
 ストローク:前後100mm,左右75mm
 分解能:0.1μm/パルス
用途 1μm分解度での高精度オペレーション
設置場所 デバイス解析室

表面張力計,接触角計

メーカー 【表面張力計】協和界面科学(株)
【接触角計】協和界面科学(株)
型番 【表面張力計】CBVP-A3
【接触角計】CA-DT, DM-100
仕様 【表面張力計】ウィルヘルム法、Pt基板使用
【接触角計】
測定方式:工学鏡による直読方式(θ/2法) 測定範囲:0°~180° 表示分解性:0.5°
視野範囲:7.0(W)×3.5(H)mm以内 目盛:1目盛 約0.083mm(3.000mm/約36目盛)
用途 【表面張力計】液体の表面張力測定
【接触角計】試料表面の汚染度、親水・疎水性の測定、試料の表面自由エネルギーの測定、転落角の測定
設置場所 デバイス解析室

アッベ屈折計

メーカー (株)アタゴ
型番 DR-M4
仕様 https://www.atago.net/japanese/new/products-dr-m-top.php
用途 屈折率測定@480,546,589,656 nm
設置場所 デバイス解析室

ハイブリッドシステム(2台)

メーカー MICRONIX
型番 MHS550
仕様 [周波数カウンタ部]
測定周波数:1Hz~10MHz, 10MHz~250MHz
ゲート時間:0.01s, 0.1s, 1s, 10s
[ファンクションジェネレータ部]
出力周波数:0.2Hz~2MHz
出力波形 : 正弦波, 方形波, 三角波及びその対称性を変えた波形
[デジタルマルチメータ部]
表示:4 1/2桁(19999カウント), アナログバーグラフ, LCD表示
測定モード:DC電圧, AC電圧, DC電流, AC電流, 抵抗, 静電容量, ロジック測定
[直流電源部]
出力電圧:0~30V 出力電流:0~2A
用途 デバイス特性解析用
設置場所 デバイス解析室

デジタルマルチメータ(2台)

メーカー KENWOOD
型番 DL-712
仕様  
用途  
設置場所 デバイス解析室

LCRメータ

メーカー 横河・ヒューレット・パッカード(株)
型番 4275A
仕様 周波数:10k~10MHz
用途  
設置場所 デバイス解析室

試料作製系

高精細3Dプリンタ

メーカー (株)キーエンス
型番 AGILISTA-3110
仕様 https://www.keyence.co.jp/products/3d-printers/3d-printers/agilista-3100/models/agilista-3110/
用途  
設置場所 デバイス分析室

プラズマアッシャー(RIE装置)

メーカー サムコ(株)
型番 FA-1
仕様 エッチングガス:CF4, O2, Ar, N2
200W、4インチサイズ基板、基板冷却タイプ
用途 Si 基板・SiO2基板のドライエッチング、有機膜の異方性ドライエッチング
設置場所 クリーンルーム

小型電子線描画装置

メーカー サンユー電子(株)
型番 ACE-7000EBL
仕様 200nmライン描画(実力的に100nm以下のパターン形成可能)
描画エリア:
加速電圧:20kV(5/10/15/20kV可変)
電子ビーム径:
CAD描画ソフト、SEM機能、寸法計測システム
用途 ナノパターン形成、デバイス回路形成、機能性デザイン、レジスト局所硬化処理
設置場所 クリーンルーム

マイクロ光造形実験機

メーカー (株)アズマ工機
型番 URM-HP301
仕様 He-Cdレーザー光源、光硬化型造形、CAD設計システム
用途 3次元のマイクロ構造の一括形成、薄膜型リソグラフィでは困難な形状形成用
立体球、チューブ、ホールなどの機能性デバイスの構成要素の形成用
メッキ、リフトオフなどによる3次元金属配線形成用のパターン
光導波路、回折格子などの光学素子形成用
設置場所 クリーンルーム

スポットUV照射装置

メーカー ウシオ電機(株)
型番 SP-9
仕様 http://www.ushio.co.kr/documents/products/lamphouse/ushio_spot-cure_series.pdf
用途 光重合反応
設置場所 クリーンルーム

マスクアライナー(露光装置)

メーカー ミカサ(株)
型番 M-1S
仕様 http://www.opticoat.co.jp/mask/#M-1S
用途 ITO電極パターンエッチング加工用 
設置場所 クリーンルーム

配向膜塗布用装置系(スピンコータ,ホットプレート,電子天びん)

メーカー 【スピンコータ】(株)ナノテック
【ホットプレート】
【電子天びん】
型番 【スピンコータ】SC200
【ホットプレート】
【電子天びん】
仕様 【スピンコータ】https://nanotech-inc.co.jp/coater/sc200ローコストスピンナー/
【ホットプレート】
【電子天びん】
用途 液晶セル作製 
設置場所 クリーンルーム

卓上半自動研磨機

メーカー (株)マルトー
型番 ML-182
仕様 http://www.maruto.com/products/2-1-2/index.html
用途   
設置場所 クリーンルーム

洗浄装置系(ビーカー洗浄器,純水製造装置,ビーカー用定温乾燥器)

メーカー 【ビーカー洗浄器】(株)サンプラテック
【純水製造装置】
【ビーカー用定温乾燥器】(株)いすゞ製作所
型番 【ビーカー洗浄器】
【純水製造装置】
【ビーカー用定温乾燥器】MDN-19GA
仕様 【ビーカー洗浄器】
【純水製造装置】純水作製
【ビーカー用定温乾燥器】保持温度300℃、温度表示、PID制御、ガス置換仕様、ステンレス仕様
用途 【ビーカー洗浄器】回転水流による実験治具の洗浄
【純水製造装置】
【ビーカー用定温乾燥器】ビーカー、シャーレ、治具等の乾燥用、温度特性の測定用チャンバー 
設置場所 クリーンルーム

卓上小型電気炉,定温乾燥炉,DCスパッタ装置,プラズマリアクター(アッシャー)

メーカー 【卓上小型電気炉】日陶科学(株)
【定温乾燥炉】ヤマト科学(株)
【DCスパッタ装置】サンユー電子(株)
【プラズマリアクター】ヤマト科学(株)
型番 【卓上小型電気炉】NHK-170
【定温乾燥炉】DX302
【DCスパッタ装置】SC-706
【プラズマリアクター】PR301
仕様 【卓上小型電気炉】使用最高温度:1250℃、プログラム制御:2パターン 8ステップ、炉壁:セラミックファイバー、ヒーター:パイロマックス
【定温乾燥炉】https://www.yamato-net.co.jp/product/show/dx302/
【DCスパッタ装置】Ar ガス、O2ガス、DCバイアス max 3kV、6インチ基板対応、DCエッチング
【プラズマリアクター】バレルチャンバー式、300W、O2プラズマ灰化式、ダイヤルマッチング方式、3インチ基板処理可能
用途 【卓上小型電気炉】トランジスタ用のPドライブ、厚膜酸化層の形成
【定温乾燥炉】
【DCスパッタ装置】基板の物理エッチング、表面親水化処理、Mo膜の形成、貴金属膜の形成
【プラズマリアクター】レジスト膜などの有機膜の除去、表面有機残さの除去、表面親水化処理、有機膜の等方性ドライエッチング
設置場所 クリーンルーム

メッキベーシック

メーカー (株)ハープ
型番 No.6300
仕様 槽容量:500cc×2
メッキ電流:50~500mA
脱脂電流:2.8A
ヒーター:45℃ or 55℃
用途 CuおよびAlなどの電解、無電解めっき膜の作製用
設置場所 クリーンルーム

臨界点乾燥装置

メーカー 日本電子(株)
型番 JCPD-5
仕様 液化炭酸ガス、メタノール置換型、サンプルサイズ20mm角可能
用途 液体処理による構造破壊を防ぐ用途に使用する。微細レジストパターンの現像処理、MEMSデバイスの乾燥処理、生体・植物試料の乾燥処理に用いる。
設置場所 デバイス解析室

小型精密切断機

メーカー リファインテック(株)
型番 RCA-005
仕様 http://refinetec.com/products/000107.html
用途 単結晶基板の切断加工、任意の方向への加工可能、高速切断可能
設置場所 デバイス解析室

精密手動スクライバー

メーカー ムサシノ電子(株)
型番 SC-100
仕様 http://www.musashino-denshi.co.jp/scriber/sc100/
用途 Si単結晶基板の精密切断、最小1mm角切断可能
設置場所 デバイス解析室

薄膜系

集光照射式赤外線真空炉(アニール装置)

メーカー (株)サーモ理工
型番 IVF298W
仕様 最高到達温度1400℃、ターボ分子ポンプ、均熱システム
用途 Si基板内へのPドライブ、高融点材料SiN等の結晶化処理
設置場所 クリーンルーム

真空蒸着装置(抵抗加熱・EB加熱)

メーカー サンユー電子(株)
型番 SVC-700TMSG/7PS80
仕様 蒸着方式:抵抗加熱(2系統)、電子ビーム加熱(1系統)、シャッター付き、QCM膜厚モニター付
電源:12V45A/7V80A(切替式)
蒸着材料:Al, Ti, Mo, Ni, Pt, Cu, Si, SiO2, Au
試料(基板)サイズ:MAX. φ50mm
排気系:ターボ分子ポンプ:67L/sec (N2)、ロータリーポンプ:20L/min
チャンバー内真空度:2×10-4Pa台
用途 電子ビームおよびフィラメントによる無機金属膜の蒸着形成、電子ビームを用いた高温アニーリング(熱処理)
設置場所 クリーンルーム

分子線エピタキシー(MBE装置)

メーカー 自作
型番  
仕様 真空度10-8 Pa
用途 ストロンチウム・アルミニウム薄膜形成
設置場所 MBE室

光・液晶系

フェムト秒レーザ実験系

メーカー スペクトラ・フィジックス(株)
(光学系は自作)
型番 Mai Tai XF-1
仕様 https://www.spectra-physics.com/ja/f/mai-tai-ultrafast-laser
用途 高速液晶応答観測
設置場所 クリーンルーム

ラビング装置

メーカー 常陽工学(株)
(特注品)
型番 LQ-015
仕様 基板の大きさ:100mm×100mm
用途 液晶配向処理
設置場所 クリーンルーム

スリットコータ実験系

メーカー 東レエンジニアリング(株)
型番  
仕様 15mm×25mm
用途 液晶配向処理
設置場所 クリーンルーム

弾性定数測定等エリプソメータ実験系

メーカー Beaglehole
型番 TSE-SPE-VIS
仕様 波長380nm~800nm
位相差・振幅比角・複素屈折率・膜厚等計測可能
用途 液晶デバイスパラメーター測定、膜厚計測
設置場所 クリーンルーム

フレクソ測定等エリプソメータ実験系

メーカー 自作
型番  
仕様 589nmの位相差測定、光弾性変調法
用途 液晶配向界面アンカリングエネルギー評価、フレクソエレクトリック係数評価
設置場所 デバイス分析室

偏光顕微鏡

メーカー Nikon
型番 ECLIPSE LV100N POL
OPTIPHOT2-POL
仕様 https://www.microscope.healthcare.nikon.com/ja_JP/products/polarizing-microscopes/eclipse-lv100n-pol
 
用途  
設置場所 デバイス評価室

その他

プリント基板加工システム(NC旋盤)

メーカー ミッツ(株)
型番 FPZ-31AT model160
仕様 分解能:0.00635
スピンドル回転数:30000~40000rpm(基板加工)、5000rpm(アクリル板)
工具:ミリングカッタ、ドリル、フォーミングカッタ、10種類自動交換
付属CADソフト:Flash for Windows
用途 プリント基板の加工、デバイスマウント用の基板加工、燃料電池用ハウジング加工、アクリル板の加工、MEMS用ハウジング加工
設置場所 デバイス解析室

工作機械(卓上フライス盤,卓上旋盤,卓上糸ノコ盤,卓上ボール盤,両頭グラインダー)

メーカー 【卓上フライス盤】(株)東洋アソシエイツ
【卓上旋盤】(株)東洋アソシエイツ
【卓上糸ノコ盤】リョービ(株)
【卓上ボール盤】アークランドサカモト(株)
【両頭グラインダー】リョービ(株)
型番 【卓上フライス盤】LittleMilling9
【卓上旋盤】Compact9
【卓上糸ノコ盤】TF-535A
【卓上ボール盤】GTTB-13SP
【両頭グラインダー】TG-151
仕様 【卓上フライス盤】
https://www.toyoas.jp/products/category/milling/detail.html?p=51&pg=0
【卓上旋盤】
https://www.toyoas.jp/products/category/senban/detail.html?p=54&pg=0
【卓上糸ノコ盤】
切断能力:木材50mm, 軟鋼板3mm, 真鍮4mm
ストローク数:950min-1(50Hz), 1100min-1(60Hz)
【卓上ボール盤】
電流:2.6/2.4A 回転数:1450/1720rpm 変速:5段階 定格時間:30min
【両頭グラインダー】
回転数:3000/3600min-1 砥石外径:150mm 厚さ:6.4mm/19mm 穴径:12.7mm
用途  
設置場所 デバイス解析室

電池式UVランプ

メーカー Thermo Fisher Scientific
型番 UV-5F
仕様 波長:254nm
ワット数:5W
用途  
設置場所 デバイス解析室

放射温度計

メーカー (株)堀場製作所
型番 IT-545N-C
仕様 https://www.horiba.com/jp/process-environmental/products-jp/thermometry/details_handheld/it-545-series-high-accuracy-infrared-thermometers-handheld-models-398/
用途 測定対象物の表面温度を離れた場所から測定する
設置場所 デバイス解析室