分析系
光電子分析装置(XPS)

メーカー | 日本電子(株) JEOL |
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型番 | JPS-9200 |
仕様 |
X線源:Al/Mgツインアノード, Alシングルアノード, 全反射型, 電子ビーム中和補正型 加速電圧:3~12kV エミッション電流:2.5~50mA エネルギー掃引範囲:0~1480eV 最小エネルギー掃引間隔:0.025eV 標準試料形状:10mm×10mm×2mm(最大6個) 真空到達度:7×10-8Pa イオン銃ビームエネルギー:Ar 0.1~4keV ビーム電流:最大2μA(吸収電流), カーブフィッティング機能, マッピング計測機能, ベーキング機構付き |
用途 |
表面の組成分析 化学分析(原子価の推定による化学結合状態の解明) 表面深さ方向分析、低エネルギー領域解析(10eV以下) |
設置場所 | デバイス分析室 |
EDS搭載走査電子顕微鏡(SEM-EDS)

メーカー | 日本電子(株) |
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型番 | JSM-6510 |
仕様 | https://www.jeol.co.jp/products/detail/JSM-6510series.html |
用途 | 材料分析 |
設置場所 | デバイス分析室 |
X線CT解析装置(X-CT)

メーカー | 松定プレシジョン(株) |
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型番 | μRay5500-LCTNFRT80 |
仕様 |
管電圧:30~80kV 管電流:30~150μA ステージ:CTステージ, 回転傾動ステージ, XYステージ 分解能:3.5μm/pixel(CTステージ) 解析ソフト:μRayVision(画像解析)3次元画像復元, スライス解析, 体積計算等 VG studio(画像処理) |
用途 |
デバイスの非破壊検査、最大3kgまでのサンプル(大型ステージ) X線透過像の撮影、X線CT像の撮影 |
設置場所 | デバイス評価室 |
原子間力顕微鏡(AFM)

メーカー | (株)島津製作所 |
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型番 | SPM-8100FM |
仕様 | https://www.an.shimadzu.co.jp/surface/spm8100fm/spec.htm |
用途 | 液晶配向界面の観測、鉛畜電池の負極電極表面での電気化学反応観測 |
設置場所 | クリーンルーム |
X線回折装置(XRD)

メーカー | (株)リガク |
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型番 | MiniFlex600 |
仕様 |
最大定格出力:600W 定格電圧:20~40kV(1kV刻み) 定格電流:2~15mA(1mA刻み) X線管:Cu-Kα スキャンモード:θ-2θ法 2θ測定範囲:-3~145deg 最小ステップ角度:0.005deg |
用途 | 物質の結晶構造解析、データベース、粉体解析、応力解析 |
設置場所 | デバイス評価室 |
共焦点レーザースキャン顕微鏡(CLSM)

メーカー | カールツァイス |
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型番 | LSM 5 PASCAL |
仕様 |
顕微鏡:倒立型Axiovert200M 観察法:蛍光、透過明視野、透過部分干渉、透過位相差(一部) 蛍光フィルター(目視観察用):Fset15wf、Fset38wf、Fset49wf 蛍光フィルター(CH1):LP475、LP505、LP530、LP560、LP650 蛍光フィルター(CH2):BP475-525、505-530、505-600、530-600、560-615 対物レンズ:Plan-NeoFluor10×、20×、40×oil 対物レンズ:Plan-Apochromart60×oilDIC、100×oilDIC 搭載レーザー:Ar458、488、514nm、HeNe543nm 検出器:蛍光用2個、透過用1個 操作、解析処理システム:LSM5 |
用途 | |
設置場所 | デバイス評価室 |
マイケルソン型2光束干渉法三次元非接触表面形状計測システム

メーカー | (株)菱化システム |
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型番 | VertScan |
仕様 | 【基本測定仕様】 選択可能波長:520nm 対物レンズ:10×、20× マイケルソン型2光束干渉対物レンズ:2.5× 接眼レンズ:CFWN 15×/14 CCDカメラ:2/3インチ データ点数:640(H)×480(V) OS:Win2000 測定モード(Focus)モーター駆動 高さ方向分解能:<60nm 測定高さ:~3000um(データ点数に依存) 【ステージ】 手動ステージ:X=Y=100mm移動 手動チルト機構:±2度 サンプル高さ:100mm以下 サンプル重量:最大約2Kg 本体重量:約60Kg(顕微鏡、手動ステージ、手動チルト機構、照明装置を含む) 電源:AC100V、15A |
用途 | |
設置場所 | デバイス評価室 |
光干渉式膜厚測定装置

メーカー | Nanometrics |
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型番 | NanoSpec M210 |
仕様 |
測定範囲:10nm~50μm 再現性:フィルムの種類によって5ű5% 標準測定時間:2.5秒 |
用途 | 薄膜の膜厚測定、フォトレジスト、酸化膜、窒化膜用 |
設置場所 | デバイス評価室 |
フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)

メーカー | 日本分光(株) |
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型番 | FT/IR-410 |
仕様 |
フーリエ変換型、透過、反射、ATR、RASモード、偏光板 分解能:1,2,4,8,16cm-1 測定波数範囲:7800~400cm-1 光源:セラミック特殊光源 検出器:DLATGS |
用途 | 膜内の分子構造解析、表面官能基の同定 |
設置場所 | デバイス評価室 |
紫外可視分光光度計(UV-Vis)

メーカー | 日本分光(株) |
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型番 | UV-550 |
仕様 |
透過、反射、積分球モード、拡散反射測定、膜厚および屈折率解析、液体セル搭載、吸収係数計測 分解能:0.1nm 測定波長範囲:190~900nm 光源:重水素放電管(190~350nm), タングステンよう素ランプ(330~900nm) 検出器:光電子倍増管 |
用途 | 反射率及び透過率の測定、薄膜の膜厚測定、屈折率の測定 |
設置場所 | デバイス評価室 |
ゼータ電位測定装置

メーカー | (株)マイクロテック・ニチオン |
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型番 | ZEECOM ZC-3000 |
仕様 |
ゼータ電位測定範囲 : -200~200 mV 供給印加電圧 : 0~350V 測定可能粒径 : 0.02~300μm モビリティー : -20~20 cm2/sec・V |
用途 | |
設置場所 | デバイス評価室 |
マニピュレータ

メーカー | 駿河精機(株) |
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型番 | UGO293 |
仕様 |
[マニピュレータ] ストローク:前後15mm,左右15mm 分解能:0.1μm/パルス アームホルダー:0~90°の回転可能 [XYステージ] ストローク:前後100mm,左右75mm 分解能:0.1μm/パルス |
用途 | 1μm分解度での高精度オペレーション |
設置場所 | デバイス解析室 |
表面張力計,接触角計

メーカー |
【表面張力計】協和界面科学(株) 【接触角計】協和界面科学(株) |
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型番 |
【表面張力計】CBVP-A3 【接触角計】CA-DT, DM-100 |
仕様 |
【表面張力計】ウィルヘルム法、Pt基板使用 【接触角計】 測定方式:工学鏡による直読方式(θ/2法) 測定範囲:0°~180° 表示分解性:0.5° 視野範囲:7.0(W)×3.5(H)mm以内 目盛:1目盛 約0.083mm(3.000mm/約36目盛) |
用途 |
【表面張力計】液体の表面張力測定 【接触角計】試料表面の汚染度、親水・疎水性の測定、試料の表面自由エネルギーの測定、転落角の測定 |
設置場所 | デバイス解析室 |
アッベ屈折計

メーカー | (株)アタゴ |
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型番 | DR-M4 |
仕様 | https://www.atago.net/japanese/new/products-dr-m-top.php |
用途 | 屈折率測定@480,546,589,656 nm |
設置場所 | デバイス解析室 |
ハイブリッドシステム(2台)

メーカー | MICRONIX |
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型番 | MHS550 |
仕様 |
[周波数カウンタ部] 測定周波数:1Hz~10MHz, 10MHz~250MHz ゲート時間:0.01s, 0.1s, 1s, 10s [ファンクションジェネレータ部] 出力周波数:0.2Hz~2MHz 出力波形 : 正弦波, 方形波, 三角波及びその対称性を変えた波形 [デジタルマルチメータ部] 表示:4 1/2桁(19999カウント), アナログバーグラフ, LCD表示 測定モード:DC電圧, AC電圧, DC電流, AC電流, 抵抗, 静電容量, ロジック測定 [直流電源部] 出力電圧:0~30V 出力電流:0~2A |
用途 | デバイス特性解析用 |
設置場所 | デバイス解析室 |
デジタルマルチメータ(2台)

メーカー | KENWOOD |
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型番 | DL-712 |
仕様 | |
用途 | |
設置場所 | デバイス解析室 |
LCRメータ

メーカー | 横河・ヒューレット・パッカード(株) |
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型番 | 4275A |
仕様 | 周波数:10k~10MHz |
用途 | |
設置場所 | デバイス解析室 |
試料作製系
高精細3Dプリンタ

メーカー | (株)キーエンス |
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型番 | AGILISTA-3110 |
仕様 | https://www.keyence.co.jp/products/3d-printers/3d-printers/agilista-3100/models/agilista-3110/ |
用途 | |
設置場所 | デバイス分析室 |
プラズマアッシャー(RIE装置)

メーカー | サムコ(株) |
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型番 | FA-1 |
仕様 |
エッチングガス:CF4, O2, Ar, N2 200W、4インチサイズ基板、基板冷却タイプ |
用途 | Si 基板・SiO2基板のドライエッチング、有機膜の異方性ドライエッチング |
設置場所 | クリーンルーム |
小型電子線描画装置

メーカー | サンユー電子(株) |
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型番 | ACE-7000EBL |
仕様 |
200nmライン描画(実力的に100nm以下のパターン形成可能) 描画エリア: 加速電圧:20kV(5/10/15/20kV可変) 電子ビーム径: CAD描画ソフト、SEM機能、寸法計測システム |
用途 | ナノパターン形成、デバイス回路形成、機能性デザイン、レジスト局所硬化処理 |
設置場所 | クリーンルーム |
マイクロ光造形実験機

メーカー | (株)アズマ工機 |
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型番 | URM-HP301 |
仕様 | He-Cdレーザー光源、光硬化型造形、CAD設計システム |
用途 |
3次元のマイクロ構造の一括形成、薄膜型リソグラフィでは困難な形状形成用 立体球、チューブ、ホールなどの機能性デバイスの構成要素の形成用 メッキ、リフトオフなどによる3次元金属配線形成用のパターン 光導波路、回折格子などの光学素子形成用 |
設置場所 | クリーンルーム |
スポットUV照射装置

メーカー | ウシオ電機(株) |
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型番 | SP-9 |
仕様 | http://www.ushio.co.kr/documents/products/lamphouse/ushio_spot-cure_series.pdf |
用途 | 光重合反応 |
設置場所 | クリーンルーム |
マスクアライナー(露光装置)

メーカー | ミカサ(株) |
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型番 | M-1S |
仕様 | http://www.opticoat.co.jp/mask/#M-1S |
用途 | ITO電極パターンエッチング加工用 |
設置場所 | クリーンルーム |
配向膜塗布用装置系(スピンコータ,ホットプレート,電子天びん)

メーカー |
【スピンコータ】(株)ナノテック 【ホットプレート】 【電子天びん】 |
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型番 |
【スピンコータ】SC200 【ホットプレート】 【電子天びん】 |
仕様 |
【スピンコータ】https://nanotech-inc.co.jp/coater/sc200ローコストスピンナー/ 【ホットプレート】 【電子天びん】 |
用途 | 液晶セル作製 |
設置場所 | クリーンルーム |
卓上半自動研磨機

メーカー | (株)マルトー |
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型番 | ML-182 |
仕様 | http://www.maruto.com/products/2-1-2/index.html |
用途 | |
設置場所 | クリーンルーム |
洗浄装置系(ビーカー洗浄器,純水製造装置,ビーカー用定温乾燥器)

メーカー |
【ビーカー洗浄器】(株)サンプラテック 【純水製造装置】 【ビーカー用定温乾燥器】(株)いすゞ製作所 |
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型番 |
【ビーカー洗浄器】 【純水製造装置】 【ビーカー用定温乾燥器】MDN-19GA |
仕様 |
【ビーカー洗浄器】 【純水製造装置】純水作製 【ビーカー用定温乾燥器】保持温度300℃、温度表示、PID制御、ガス置換仕様、ステンレス仕様 |
用途 |
【ビーカー洗浄器】回転水流による実験治具の洗浄 【純水製造装置】 【ビーカー用定温乾燥器】ビーカー、シャーレ、治具等の乾燥用、温度特性の測定用チャンバー |
設置場所 | クリーンルーム |
卓上小型電気炉,定温乾燥炉,DCスパッタ装置,プラズマリアクター(アッシャー)

メーカー |
【卓上小型電気炉】日陶科学(株) 【定温乾燥炉】ヤマト科学(株) 【DCスパッタ装置】サンユー電子(株) 【プラズマリアクター】ヤマト科学(株) |
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型番 |
【卓上小型電気炉】NHK-170 【定温乾燥炉】DX302 【DCスパッタ装置】SC-706 【プラズマリアクター】PR301 |
仕様 |
【卓上小型電気炉】使用最高温度:1250℃、プログラム制御:2パターン 8ステップ、炉壁:セラミックファイバー、ヒーター:パイロマックス 【定温乾燥炉】https://www.yamato-net.co.jp/product/show/dx302/ 【DCスパッタ装置】Ar ガス、O2ガス、DCバイアス max 3kV、6インチ基板対応、DCエッチング 【プラズマリアクター】バレルチャンバー式、300W、O2プラズマ灰化式、ダイヤルマッチング方式、3インチ基板処理可能 |
用途 |
【卓上小型電気炉】トランジスタ用のPドライブ、厚膜酸化層の形成 【定温乾燥炉】 【DCスパッタ装置】基板の物理エッチング、表面親水化処理、Mo膜の形成、貴金属膜の形成 【プラズマリアクター】レジスト膜などの有機膜の除去、表面有機残さの除去、表面親水化処理、有機膜の等方性ドライエッチング |
設置場所 | クリーンルーム |
メッキベーシック

メーカー | (株)ハープ |
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型番 | No.6300 |
仕様 |
槽容量:500cc×2 メッキ電流:50~500mA 脱脂電流:2.8A ヒーター:45℃ or 55℃ |
用途 | CuおよびAlなどの電解、無電解めっき膜の作製用 |
設置場所 | クリーンルーム |
臨界点乾燥装置

メーカー | 日本電子(株) |
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型番 | JCPD-5 |
仕様 | 液化炭酸ガス、メタノール置換型、サンプルサイズ20mm角可能 |
用途 | 液体処理による構造破壊を防ぐ用途に使用する。微細レジストパターンの現像処理、MEMSデバイスの乾燥処理、生体・植物試料の乾燥処理に用いる。 |
設置場所 | デバイス解析室 |
小型精密切断機

メーカー | リファインテック(株) |
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型番 | RCA-005 |
仕様 | http://refinetec.com/products/000107.html |
用途 | 単結晶基板の切断加工、任意の方向への加工可能、高速切断可能 |
設置場所 | デバイス解析室 |
精密手動スクライバー

メーカー | ムサシノ電子(株) |
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型番 | SC-100 |
仕様 | http://www.musashino-denshi.co.jp/scriber/sc100/ |
用途 | Si単結晶基板の精密切断、最小1mm角切断可能 |
設置場所 | デバイス解析室 |
薄膜系
集光照射式赤外線真空炉(アニール装置)

メーカー | (株)サーモ理工 |
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型番 | IVF298W |
仕様 | 最高到達温度1400℃、ターボ分子ポンプ、均熱システム |
用途 | Si基板内へのPドライブ、高融点材料SiN等の結晶化処理 |
設置場所 | クリーンルーム |
真空蒸着装置(抵抗加熱・EB加熱)

メーカー | サンユー電子(株) |
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型番 | SVC-700TMSG/7PS80 |
仕様 |
蒸着方式:抵抗加熱(2系統)、電子ビーム加熱(1系統)、シャッター付き、QCM膜厚モニター付 電源:12V45A/7V80A(切替式) 蒸着材料:Al, Ti, Mo, Ni, Pt, Cu, Si, SiO2, Au 試料(基板)サイズ:MAX. φ50mm 排気系:ターボ分子ポンプ:67L/sec (N2)、ロータリーポンプ:20L/min チャンバー内真空度:2×10-4Pa台 |
用途 | 電子ビームおよびフィラメントによる無機金属膜の蒸着形成、電子ビームを用いた高温アニーリング(熱処理) |
設置場所 | クリーンルーム |
分子線エピタキシー(MBE装置)

メーカー | 自作 |
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型番 | |
仕様 | 真空度10-8 Pa |
用途 | ストロンチウム・アルミニウム薄膜形成 |
設置場所 | MBE室 |
光・液晶系
フェムト秒レーザ実験系

メーカー |
スペクトラ・フィジックス(株) (光学系は自作) |
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型番 | Mai Tai XF-1 |
仕様 | https://www.spectra-physics.com/ja/f/mai-tai-ultrafast-laser |
用途 | 高速液晶応答観測 |
設置場所 | クリーンルーム |
ラビング装置

メーカー |
常陽工学(株) (特注品) |
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型番 | LQ-015 |
仕様 | 基板の大きさ:100mm×100mm |
用途 | 液晶配向処理 |
設置場所 | クリーンルーム |
スリットコータ実験系

メーカー | 東レエンジニアリング(株) |
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型番 | |
仕様 | 15mm×25mm |
用途 | 液晶配向処理 |
設置場所 | クリーンルーム |
弾性定数測定等エリプソメータ実験系

メーカー | Beaglehole |
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型番 | TSE-SPE-VIS |
仕様 |
波長380nm~800nm 位相差・振幅比角・複素屈折率・膜厚等計測可能 |
用途 | 液晶デバイスパラメーター測定、膜厚計測 |
設置場所 | クリーンルーム |
フレクソ測定等エリプソメータ実験系

メーカー | 自作 |
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型番 | |
仕様 | 589nmの位相差測定、光弾性変調法 |
用途 | 液晶配向界面アンカリングエネルギー評価、フレクソエレクトリック係数評価 |
設置場所 | デバイス分析室 |
偏光顕微鏡

メーカー | Nikon |
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型番 |
ECLIPSE LV100N POL OPTIPHOT2-POL |
仕様 |
https://www.microscope.healthcare.nikon.com/ja_JP/products/polarizing-microscopes/eclipse-lv100n-pol |
用途 | |
設置場所 | デバイス評価室 |
その他
プリント基板加工システム(NC旋盤)

メーカー | ミッツ(株) |
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型番 | FPZ-31AT model160 |
仕様 |
分解能:0.00635 スピンドル回転数:30000~40000rpm(基板加工)、5000rpm(アクリル板) 工具:ミリングカッタ、ドリル、フォーミングカッタ、10種類自動交換 付属CADソフト:Flash for Windows |
用途 | プリント基板の加工、デバイスマウント用の基板加工、燃料電池用ハウジング加工、アクリル板の加工、MEMS用ハウジング加工 |
設置場所 | デバイス解析室 |
工作機械(卓上フライス盤,卓上旋盤,卓上糸ノコ盤,卓上ボール盤,両頭グラインダー)

メーカー |
【卓上フライス盤】(株)東洋アソシエイツ 【卓上旋盤】(株)東洋アソシエイツ 【卓上糸ノコ盤】リョービ(株) 【卓上ボール盤】アークランドサカモト(株) 【両頭グラインダー】リョービ(株) |
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型番 |
【卓上フライス盤】LittleMilling9 【卓上旋盤】Compact9 【卓上糸ノコ盤】TF-535A 【卓上ボール盤】GTTB-13SP 【両頭グラインダー】TG-151 |
仕様 |
【卓上フライス盤】 https://www.toyoas.jp/products/category/milling/detail.html?p=51&pg=0 【卓上旋盤】 https://www.toyoas.jp/products/category/senban/detail.html?p=54&pg=0 【卓上糸ノコ盤】 切断能力:木材50mm, 軟鋼板3mm, 真鍮4mm ストローク数:950min-1(50Hz), 1100min-1(60Hz) 【卓上ボール盤】 電流:2.6/2.4A 回転数:1450/1720rpm 変速:5段階 定格時間:30min 【両頭グラインダー】 回転数:3000/3600min-1 砥石外径:150mm 厚さ:6.4mm/19mm 穴径:12.7mm |
用途 | |
設置場所 | デバイス解析室 |
電池式UVランプ

メーカー | Thermo Fisher Scientific |
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型番 | UV-5F |
仕様 |
波長:254nm ワット数:5W |
用途 | |
設置場所 | デバイス解析室 |
放射温度計

メーカー | (株)堀場製作所 |
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型番 | IT-545N-C |
仕様 | https://www.horiba.com/jp/process-environmental/products-jp/thermometry/details_handheld/it-545-series-high-accuracy-infrared-thermometers-handheld-models-398/ |
用途 | 測定対象物の表面温度を離れた場所から測定する |
設置場所 | デバイス解析室 |